简要说明：本电源适用电镀、电解、氧化、电子老化等场所。
因为并联运行的各个模块特性并不一致，外特性好（电压调整率小）的模块，可能承担更多的电流，甚至过载，从而使某些外特性较差的模块运行于轻载，甚至基本上是空载运行。其结果必然是分担电流多的模块，热应力大，降低了可靠性。该电源采用N+1并联方式，可有效保证模块间电流应力和热应力的均匀分配，防止一台或多台模块运行在电流极限值（限流）状态。

　　特点:
1、体积小、重量轻：
体积与重量为可控硅整流器的1/5-1/10，便于您规划、扩建、移动、维护和安装。
2、节能效果好：
开关电源由于采用了高频变压器，转换效率大大提高，正常情况下较可控硅设备提高效率10%以上，负载率达70%以下时较可控硅设备提高效率30%以上。
3、输出稳定性高：
由于系统反应速度快（微秒级），对于网电及负载变化具有极强的适应性，输出精度可优于1%。开关电源的工作效率高、所以控制精度高，有利于提高产品质量。
4、输出波形易于调制：
由于工作频率高，其输出波形调整相对处理成本较低，可以较方便的按照用户工艺要求改变输出波形。这样对于工作现场提高工效，改善加工产品质量有较强作用。

技术指标:

输入电压 AC380V/AC220V
输出特性 恒流/恒压可转换  ( 0~额定值 )
输出波形 高频方波、直流及叠加波形
调节精度 ≤1%
效　　率 ≥89%
功率因数 ≤90%
保护方式 过压、欠压、过热、过流
冷却方式 风冷或水冷
可选配置 PLC接口
环境温度 -20℃-45℃
环境湿度 ≤80%
绝缘等级 B级
防护等级 IP20

应用特点:
1、 降低孔隙率,晶核的形成速度大于成长速度,促使晶核细化。
2、 改善结合力,使钝化膜击穿,有利于基体与镀层之间牢固的结合。
3、 改善覆盖能力和分散能力,高的阴极负电位使普通电镀中钝化的部位也能沉积,减缓形态复杂零件的突出部位由于沉积离子过度消耗而带来的“烧焦”“树枝状”沉积的缺陷,对于获得一个给定特性镀层(如颜色、无孔隙等)的厚度可减少到原来1/3~1/2,节省原材料。
4、 降低镀层的内应力,改善晶格缺陷、杂质、空洞、瘤子等,容易得到无裂纹的镀层,减少添加剂。
5、 有利于获得成份稳定的合金镀层。
6、 改善阳极的溶解,不需阳极活化剂。
7、 改进镀层的机械物理性能,如提高密度降低表面电阻和体电阻,提高韧性、耐磨性、抗蚀性而且可以控制镀层硬度。
传统的电镀抑制副作用的产生、改善电流分布、调节液相传质过程、控制结晶取向显得毫无作用,面对络合剂和添加剂的研究成了电镀工艺研究的主要方向。纳米开关电源解决了传统大功率高频开关电源存在的缺陷。

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