SEA1200VX测量范围涵盖了RoHS/ELV分析及其他专业分析的能量色散型X射线荧光分析仪。配备有独自开发的无需液氮的高计数率检测器「Vortex」及全新设计的X射线发生系统，使得检测灵敏度较从前提升了10倍以上。因此，也缩短了0.5mm~1.2mm的微小区域的测量时间。通过提升微小区域的测量灵敏度以及配合了高速电动平台，实现了二维元素扫描成像的快速化。 
技术参数: 
可测量元素  原子序数11(Na)～92(U) 
样品形态  固体、粉末、液体 
X射线源  小型空冷式X射线管球(W靶)    管电压：15kV 、30kV、40kV、50kV    管电流：1mA 
检测器  Vortex® Si半导体检测器(无需液氮) 
准直器 □0.2、0.5、1.2、3.0mm(自动切换) 
样品观察  彩色CCD摄像头 
滤波器  6种模式自动切换 
样品室  580(W) ×450(D) ×150(H)mm 可对250(X)×200(Y)mm范围内进行全面的点分析以及扫描分析
重量（主机）  160kg(不含电脑)
定性分析功能  能谱测量、自动辨别，比较表示， KLM标示表示，差异表示 
定量分析功能  块体FP法，块体检量线法(标准曲线法) 
统计处理功能  MS-EXCEL® 
报告制作  MS-WORD® 
安装环境  温度：10℃～35℃(±)5℃     湿度：35%～80% 
使用电源  AC100~120V、200~240V±10%、10A 
特长 
1.快速扫描测量
通过提升微小区域的测量灵敏度以及配合了高速电动平台，可快速获得二维元素扫描图像。特别是强化了对线路板中铅的扫描测量能力，配备了铅扫描专用的滤波器。可扫描检测出无铅焊锡中1,000ppm以下的铅。
2. 宽视野高清晰度的光学系统
可获得250mm×250mm的20μm以下的高清晰度光学影像。从该光学影像可以精确指定测量位置，仪器的操作性得到了飞跃般的提升。此外，该光学影响还能和扫描后获得的影像进行重叠，从而实现了高精度的图像解析。
3. 快速测量微小区域的微量金属
通过所配备的高密度微小X射线束和高计数率检测器，以及充分考虑到X射线荧光检测效率的设计，实现了测量的高灵敏度。可短时间测量微小区域的微量金属或薄膜。仅需100秒左右的时间就可检测出1mm×1mm微小区域中的有害物质
4. 无需检测器的高计数率检测器
标准配备了精工纳米独自研发设计无需液氮的高计数率检测器Vortex。免去了繁琐的液氮补给过程。开机时间也仅为短短数分钟，电子冷却系统更是值得信赖。减少了液氮在制造、运输时产生的二氧化碳的排放，同时因为高效率的检测速度而减少了电力的消耗，是一款环保型的仪器的因为可以在真空环境下测量，所以测量范围扩大为Na～U。（选配）。
5. 连续测量
从所取得的宽视野样品观察画面到样品台上的样品可最多记录500个样品位置，可对不同测量条件的样品进行连续测量。
6. 微小区域的镀层厚度测量
只需10秒左右的时间，便可对0.2mm×0.2mm大小的Au/Ni/Cu（金/镍/铜）等薄膜多层镀层的镀层厚度进行高精度测量。同时也可以对无铅焊锡镀层或化学镍镀层中含有的微量铅进行分析测量。